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Tecnologiaquarta-feira, 15 de julho de 2026

ASML eleva previsão de receita para 2026 e expande capacidade diante da procura por chips de IA

Fabricante holandesa de equipamentos de litografia reporta resultados acima do esperado no segundo trimestre e revê em alta a orientação anual, impulsionada por encomendas recorde de clientes como Intel e TSMC.

A ASML, fornecedora dominante de máquinas de litografia para a indústria de semicondutores, reportou receita líquida de 9,3 mil milhões de euros no segundo trimestre de 2026, superando a projeção de 8,8 mil milhões de euros compilada por analistas. O lucro líquido atingiu 2,9 mil milhões de euros, também acima dos 2,6 mil milhões esperados. A empresa reviu em alta a previsão de receita para o ano completo, de um intervalo anterior de 36 a 40 mil milhões de euros para 43 a 45 mil milhões de euros, uma elevação de 16% no ponto médio. A margem bruta anual projetada situa-se entre 54% e 56%.

O desempenho reflete a aceleração dos investimentos em inteligência artificial, que aquecem a procura por chips lógicos e de memória de última geração. O diretor-executivo Christophe Fouquet afirmou que a carteira de encomendas no primeiro semestre foi “extremamente forte”, conferindo à companhia maior visibilidade sobre a procura de longo prazo. Para responder a esse cenário, a ASML anunciou planos de expansão agressiva: a capacidade de produção dos equipamentos de litografia ultravioleta extrema de baixa abertura numérica (low NA EUV) será ampliada em 30% em 2027, com possibilidade de novo aumento de 30% em 2028, enquanto a linha de sistemas de imersão em ultravioleta profundo (DUV) seguirá trajetória semelhante.

Em paralelo, a Intel revelou que a sua tecnologia de fabricação 18A atingiu 85% de rendimento, aproximando-se dos 90% registados pela TSMC no nó N2 e superando os 50% a 60% da Samsung Foundry no SF2, segundo estimativas do banco KeyBanc citadas por analistas do setor. A melhoria permitiu à Intel internalizar 80% a 90% da produção dos chips Nova Lake, antes destinados maioritariamente à TSMC, e conquistar encomendas de design de empresas como AMD, Nvidia, Microsoft e OpenAI. A Intel já utiliza a ferramenta High NA EUV da ASML na produção de alguns processadores Panther Lake, marcando a estreia comercial dessa tecnologia.

A ASML realizará o seu próximo Capital Markets Day em 10 de junho de 2027, ocasião em que atualizará as projeções de médio e longo prazo. Até lá, o mercado acompanhará a execução dos planos de expansão de capacidade e a evolução da adoção da litografia High NA, enquanto a Intel projeta o início da produção em volume do nó 14A para o segundo semestre de 2028.

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quarta-feira, 15 de julho de 2026

ASML eleva previsão de receita para 2026 e expande capacidade diante da procura por chips de IA

Fabricante holandesa de equipamentos de litografia reporta resultados acima do esperado no segundo trimestre e revê em alta a orientação anual, impulsionada por encomendas recorde de clientes como Intel e TSMC.

A ASML, fornecedora dominante de máquinas de litografia para a indústria de semicondutores, reportou receita líquida de 9,3 mil milhões de euros no segundo trimestre de 2026, superando a projeção de 8,8 mil milhões de euros compilada por analistas. O lucro líquido atingiu 2,9 mil milhões de euros, também acima dos 2,6 mil milhões esperados. A empresa reviu em alta a previsão de receita para o ano completo, de um intervalo anterior de 36 a 40 mil milhões de euros para 43 a 45 mil milhões de euros, uma elevação de 16% no ponto médio. A margem bruta anual projetada situa-se entre 54% e 56%.

O desempenho reflete a aceleração dos investimentos em inteligência artificial, que aquecem a procura por chips lógicos e de memória de última geração. O diretor-executivo Christophe Fouquet afirmou que a carteira de encomendas no primeiro semestre foi “extremamente forte”, conferindo à companhia maior visibilidade sobre a procura de longo prazo. Para responder a esse cenário, a ASML anunciou planos de expansão agressiva: a capacidade de produção dos equipamentos de litografia ultravioleta extrema de baixa abertura numérica (low NA EUV) será ampliada em 30% em 2027, com possibilidade de novo aumento de 30% em 2028, enquanto a linha de sistemas de imersão em ultravioleta profundo (DUV) seguirá trajetória semelhante.

Em paralelo, a Intel revelou que a sua tecnologia de fabricação 18A atingiu 85% de rendimento, aproximando-se dos 90% registados pela TSMC no nó N2 e superando os 50% a 60% da Samsung Foundry no SF2, segundo estimativas do banco KeyBanc citadas por analistas do setor. A melhoria permitiu à Intel internalizar 80% a 90% da produção dos chips Nova Lake, antes destinados maioritariamente à TSMC, e conquistar encomendas de design de empresas como AMD, Nvidia, Microsoft e OpenAI. A Intel já utiliza a ferramenta High NA EUV da ASML na produção de alguns processadores Panther Lake, marcando a estreia comercial dessa tecnologia.

A ASML realizará o seu próximo Capital Markets Day em 10 de junho de 2027, ocasião em que atualizará as projeções de médio e longo prazo. Até lá, o mercado acompanhará a execução dos planos de expansão de capacidade e a evolução da adoção da litografia High NA, enquanto a Intel projeta o início da produção em volume do nó 14A para o segundo semestre de 2028.

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