
ASML上调全年营收指引,AI需求催生产能扩张
第二季度业绩超预期,公司计划大幅提升极紫外与深紫外光刻设备产能,同时英特尔18A制程良率改善引发代工格局变动。
荷兰光刻机巨头ASML公布2026年第二季度财报,净销售额93亿欧元、净利润29亿欧元,均高于市场预期。公司同时将全年营收指引从此前的360亿至400亿欧元大幅上调至430亿至450亿欧元,毛利率预计维持在54%至56%。这一调整反映出人工智能领域持续的投资与技术迭代,正强力拉动先进逻辑与存储芯片的需求。
作为全球唯一极紫外(EUV)光刻设备供应商,ASML的业绩与扩产计划被视为半导体行业景气度的风向标。公司宣布,计划在2027年将低数值孔径EUV设备的产能较2026年的65台提升30%,并评估2028年再增30%;浸没式深紫外(DUV)设备同样将在2027年从130台的基数扩产30%,并研究进一步扩产可能。DUV设备虽用于成熟制程,但中国芯片制造商在出口管制下仍大量采购以扩充非先进产能,因此该扩产计划对亚洲供应链亦有直接影响。
与ASML高端设备紧密相关的英特尔先进制程进展,成为市场另一焦点。投行KeyBanc的报告显示,英特尔18A制程良率已从65%提升至85%,虽仍低于台积电N2制程的90%,但已明显优于三星SF2的50%至60%。得益于此,英特尔可能将下一代桌面处理器Nova Lake的80%至90%晶粒订单转回自有晶圆代工服务(IFS),而非外包给台积电。报告还称,英特尔已赢得AMD、英伟达、OpenAI等多家公司的代工设计订单,并上调了设备采购量。这些信息尚未经公司证实,但若属实,将意味着全球先进制程竞争格局出现重要变化。
从区域视角看,美国正通过英特尔等本土企业试图重建芯片制造领先地位,而台积电在先进制程仍占据主导,其N2制程良率优势明显。亚洲方面,三星的良率困境使其在争取高端客户时面临挑战。ASML的产能扩张则为所有参与者提供了关键设备保障,但地缘政治因素仍限制着EUV设备对华出口。下一个值得关注的时间节点是2027年6月ASML的资本市场日,届时公司将更新中长期市场展望,而英特尔14A制程预计于2028年下半年量产,这些都将为全球半导体供应链的再平衡提供更多线索。